日前，中國集成電路產業鏈協同創新發展交流會在北京和上海兩大主會場舉行，會上頒發了第四屆集成電路產業技術創新獎（簡稱“IC創新獎”）。在126家單位的159個參選項目中，最終16個項目中獎，至純科技憑借8/12英寸晶圓槽式清洗設備研制及產業化項目，斬獲“IC創新獎”成果產業化獎。
IC創新獎評選活動已成功舉辦四屆，共有全國380余家單位的近600個優秀項目（產品、技術、合作團隊或個人等）參與評選，累計頒發技術創新獎、成果產業化獎、產業鏈合作獎以及產業創新突出貢獻獎共80余項。
此次獲得“IC創新獎”成果產業化獎，彰顯了行業對至純科技持續創造的產業賦能作用和經濟價值的高度認可。至純科技歷經IP自主、制造自主、供應鏈自主進行研發和銷售制造，在江蘇啟東制造基地落實供應鏈的本地化與產業化，所生產濕法設備已經有效代表本土品牌參與到中國大陸和中國大陸以外高端清洗設備市場，努力成為參與國際競爭的中國半導體設備廠商之一。